ಪೀಜೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಪರಿಣಾಮದ ಜೊತೆಗೆ, ದ್ಯುತಿವಿದ್ಯುತ್ ಪರಿಣಾಮLNಸ್ಫಟಿಕವು ತುಂಬಾ ಶ್ರೀಮಂತವಾಗಿದೆ, ಅವುಗಳಲ್ಲಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋ-ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪರಿಣಾಮ ಮತ್ತು ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪರಿಣಾಮವು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಮೇಲಾಗಿ,LNಸ್ಫಟಿಕ ಆಗಿರಬಹುದುಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆಪ್ರೋಟಾನ್ ವಿನಿಮಯ ಅಥವಾ ಟೈಟಾನಿಯಂ ಪ್ರಸರಣದಿಂದ ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಅನ್ನು ತಯಾರಿಸಿ, ಮತ್ತುಸಹಆಗಬಹುದುಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆಧ್ರುವೀಕರಣ ರಿವರ್ಸಲ್ ಮೂಲಕ ಆವರ್ತಕ ಧ್ರುವೀಕರಣ ಸ್ಫಟಿಕವನ್ನು ತಯಾರಿಸಿ. ಆದ್ದರಿಂದ, LN ಸ್ಫಟಿಕವು ಅನೇಕ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ in E-Oಮಾಡ್ಯುಲೇಟರ್ (ಚಿತ್ರದಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ), ಹಂತದ ಮಾಡ್ಯುಲೇಟರ್, ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸ್ವಿಚ್,E-O Q-ಸ್ವಿಚ್, ಇ-Oಡಿಫ್ಲೆಕ್ಟರ್‌ಗಳು, ಹೈ ವೋಲ್ಟೇಜ್ ಸೆನ್ಸರ್‌ಗಳು, ವೇವ್‌ಫ್ರಂಟ್ ಡಿಟೆಕ್ಷನ್, ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪ್ಯಾರಾಮೆಟ್ರಿಕ್ ಆಸಿಲೇಟರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಫೆರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಸೂಪರ್‌ಲ್ಯಾಟಿಸ್‌ಗಳುಇತ್ಯಾದಿ.ಜೊತೆಗೆ,LN ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್-ಆಧಾರಿತ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳುಬೈರೆಫ್ರಿಂಜೆಂಟ್ ಬೆಣೆangle ಪ್ಲೇಟ್‌ಗಳು, ಹೊಲೊಗ್ರಾಫಿಕ್ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸಾಧನಗಳು, ಅತಿಗೆಂಪು ಪೈರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಡಿಟೆಕ್ಟರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಎರ್ಬಿಯಂ-ಡೋಪ್ಡ್ ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಲೇಸರ್‌ಗಳು ಸಹ ವರದಿಯಾಗಿವೆ.

ಪೀಜೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಅನ್ವಯಗಳಂತಲ್ಲದೆ, ದಿse ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪ್ರಸರಣವನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗೆ ವಿಭಿನ್ನ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆಪ್ರದರ್ಶನಫಾರ್LNಹರಳುಗಳು.Fಮೊದಲನೆಯದುಲೈ, ದಿಬೆಳಕಿನ ತರಂಗದ ಪ್ರಸರಣ, ಜೊತೆನೂರಾರು ನ್ಯಾನೊಮೀಟರ್‌ಗಳಿಂದ ಕೆಲವು ಮೈಕ್ರಾನ್‌ಗಳವರೆಗೆ ತರಂಗಾಂತರ, ಕೇವಲ ಸ್ಫಟಿಕ ಅಗತ್ಯವಿದೆಅತ್ಯುತ್ತಮ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿವೆಆದರೆ ಕಟ್ಟುನಿಟ್ಟಾಗಿ ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದುಸ್ಫಟಿಕ ದೋಷಗಳುಗಾತ್ರದೊಂದಿಗೆತರಂಗಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸಬಹುದುಉದ್ದ.ಎರಡನೆಯದಾಗಿ,it ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅಗತ್ಯಗಾಗಿಸ್ಫಟಿಕದಲ್ಲಿ ಹರಡುವ ಬೆಳಕಿನ ತರಂಗದ ಹಂತ ಮತ್ತು ಧ್ರುವೀಕರಣದ ನಿಯತಾಂಕಗಳನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್.ಈ ನಿಯತಾಂಕಗಳು ಸ್ಫಟಿಕದ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಸೂಚ್ಯಂಕದ ಗಾತ್ರ ಮತ್ತು ವಿತರಣೆಗೆ ನೇರವಾಗಿ ಸಂಬಂಧಿಸಿವೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಅದನ್ನು ತೊಡೆದುಹಾಕಲು ಅವಶ್ಯಕವಾಗಿದೆ.ಬಾಹ್ಯ ಮತ್ತು ಬಾಹ್ಯ ಒತ್ತಡಸಾಧ್ಯವಾದಷ್ಟು ಹರಳಿನ. LNಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸುವ ಸ್ಫಟಿಕಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ "ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಗ್ರೇಡ್" ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆLNಹರಳುಗಳು".

Z- ಅಕ್ಷ ಮತ್ತುX-ಅಕ್ಷರೇಖೆo ನ ಬೆಳವಣಿಗೆಗೆ ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲಾಗಿದೆಪಿಟಿಕಲ್ ಗ್ರೇಡ್LNಸ್ಫಟಿಕ.LN ಸ್ಫಟಿಕಕ್ಕಾಗಿ, Z-ಅಕ್ಷರೇಖೆಇದೆಅತ್ಯಧಿಕಜ್ಯಾಮಿತೀಯಸಮ್ಮಿತಿಯಾವುದುಗೆ ಸ್ಥಿರವಾಗಿದೆನ ಸಮ್ಮಿತಿಉಷ್ಣ ಕ್ಷೇತ್ರ.ಆದ್ದರಿಂದZ-ಅಕ್ಷವು ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಬೆಳವಣಿಗೆಗೆ ಅನುಕೂಲಕರವಾಗಿದೆLN ಸ್ಫಟಿಕಯಾವುದು ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆಚೌಕಗಳು ಅಥವಾ ವಿಶೇಷ ಆಕಾರದ ಬ್ಲಾಕ್ಗಳಾಗಿ ಕತ್ತರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಫೆರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ಸೂಪರ್ಲ್ಯಾಟಿಸ್ ಸಾಧನಗಳು ಸಹಮಾಡಿದೆZ- ಅಕ್ಷದಿಂದLNಬಿಲ್ಲೆಗಳು. ಎಕ್ಸ್-ಅಕ್ಷLNಸ್ಫಟಿಕವನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ X- ತಯಾರಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆcut LNವೇಫರ್, ಕತ್ತರಿಸುವುದು, ಚೇಂಫರಿಂಗ್, ಗ್ರೈಂಡಿಂಗ್, ಪಾಲಿಶಿಂಗ್, ಫೋಟೋಲಿಯೋಗ್ರಫಿ ಮತ್ತು ಅರೆವಾಹಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾದ ಇತರ ನಂತರದ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.ಎಕ್ಸ್-ಅಕ್ಷLNಸ್ಫಟಿಕ ಆಗಿದೆಮುಖ್ಯವಾಗಿಹೆಚ್ಚಿನವುಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆಇಒಮಾಡ್ಯುಲೇಟರ್‌ಗಳು, ಫೇಸ್ ಮಾಡ್ಯುಲೇಟರ್‌ಗಳು, ಬೈರ್‌ಫ್ರಿಂಜೆಂಟ್ ವೆಜ್ ಸ್ಲೈಸ್‌ಗಳು, ವೇವ್‌ಗೈಡ್ ಲೇಸರ್‌ಗಳು ಇತ್ಯಾದಿ.

WISOPTIC ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿದ ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ LN ಸ್ಫಟಿಕ (LN Pockels cell).