ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಪರಿಣಾಮವು ಹೊಲೊಗ್ರಾಫಿಕ್ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳ ಆಧಾರವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ಇದು ಇತರ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗೆ ತೊಂದರೆಗಳನ್ನು ತರುತ್ತದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಲಿಥಿಯಂ ನಿಯೋಬೇಟ್ ಸ್ಫಟಿಕದ ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಮನವನ್ನು ನೀಡಲಾಗಿದೆ, ಅವುಗಳಲ್ಲಿ ಡೋಪಿಂಗ್ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಪ್ರಮುಖ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ.ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಡೋಪಿಂಗ್‌ಗೆ ವ್ಯತಿರಿಕ್ತವಾಗಿ, ಆಂಟಿ-ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಡೋಪಿಂಗ್ ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಕೇಂದ್ರವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ವೇರಿಯಬಲ್ ಅಲ್ಲದ ವೇಲೆಂಟ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಅಂಶಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ.1980 ರಲ್ಲಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಅನುಪಾತದ Mg-ಡೋಪ್ಡ್ LN ಸ್ಫಟಿಕದ ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಪ್ರತಿರೋಧವು 2 ಆರ್ಡರ್‌ಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಪ್ರಮಾಣದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ ಎಂದು ವರದಿಯಾಗಿದೆ, ಇದು ವ್ಯಾಪಕ ಗಮನವನ್ನು ಸೆಳೆಯಿತು.1990 ರಲ್ಲಿ, ಸತು-ಡೋಪ್ಡ್ ಎಲ್ಎನ್ ಮೆಗ್ನೀಸಿಯಮ್-ಡೋಪ್ಡ್ ಎಲ್ಎನ್ನಂತೆಯೇ ಹೆಚ್ಚಿನ ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಎಂದು ಸಂಶೋಧಕರು ಕಂಡುಕೊಂಡರು.ಹಲವಾರು ವರ್ಷಗಳ ನಂತರ, ಸ್ಕ್ಯಾಂಡಿಯಮ್-ಡೋಪ್ಡ್ ಮತ್ತು ಇಂಡಿಯಮ್-ಡೋಪ್ಡ್ ಎಲ್ಎನ್ ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ರೆಸಿಸ್ಟೆನ್ಸ್ ಅನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದವು.

2000 ರಲ್ಲಿ, ಕ್ಸು ಮತ್ತು ಇತರರು.ಹೆಚ್ಚಿನದನ್ನು ಕಂಡುಹಿಡಿದಿದೆಅನುಪಾತ Mಜಿ-ಡೋಪ್ಡ್LNಗೋಚರ ಬ್ಯಾಂಡ್ ha ನಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ದ್ಯುತಿ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಸ್ಫಟಿಕsUV ಬ್ಯಾಂಡ್‌ನಲ್ಲಿ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ.ಈ ಆವಿಷ್ಕಾರವು ತಿಳುವಳಿಕೆಯನ್ನು ಮುರಿಯಿತುದಿದ್ಯುತಿ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಪ್ರತಿರೋಧLNಸ್ಫಟಿಕ, ಮತ್ತು ನೇರಳಾತೀತ ಬ್ಯಾಂಡ್‌ನಲ್ಲಿ ಅನ್ವಯಿಸಲಾದ ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ವಸ್ತುಗಳ ಖಾಲಿ ಜಾಗವನ್ನು ಸಹ ತುಂಬಿದೆ.ಕಡಿಮೆ ತರಂಗಾಂತರ ಎಂದರೆ ಹೊಲೊಗ್ರಾಫಿಕ್ ಗ್ರ್ಯಾಟಿಂಗ್‌ನ ಗಾತ್ರವು ಚಿಕ್ಕದಾಗಿರಬಹುದು ಮತ್ತು ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಡೈನಾಮಿಕ್ ಹೊಲೊಗ್ರಾಫಿಕ್ ಆಪ್ಟಿಕ್ಸ್‌ನ ಅನ್ವಯವನ್ನು ಅರಿತುಕೊಳ್ಳಲು ನೇರಳಾತೀತ ಬೆಳಕಿನಿಂದ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಅಳಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಗ್ರ್ಯಾಟಿಂಗ್‌ನಲ್ಲಿ ಬರೆಯಬಹುದು ಮತ್ತು ಕೆಂಪು ಬೆಳಕು ಮತ್ತು ಹಸಿರು ಬೆಳಕಿನಿಂದ ಓದಬಹುದು. .ಲಾಮಾರ್ಕ್ ಮತ್ತು ಇತರರು.ಹೆಚ್ಚಿನದನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಂಡರುಅನುಪಾತ ಎಂಜಿ-ಡೋಪ್ಡ್LN ಸ್ಫಟಿಕವನ್ನು ನಂಕೈ ವಿಶ್ವವಿದ್ಯಾನಿಲಯವು ಯುವಿ ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಆಗಿ ಒದಗಿಸಿದೆವಸ್ತುಮತ್ತು ಎರಡು-ತರಂಗಗಳ ಬೆಳಕಿನ ವರ್ಧನೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಪ್ರೋಗ್ರಾಮೆಬಲ್ ಎರಡು ಆಯಾಮದ ಲೇಸರ್ ಗುರುತುಗಳನ್ನು ಅರಿತುಕೊಂಡರು.

ಆರಂಭಿಕ ಹಂತದಲ್ಲಿ, ಆಂಟಿ-ಫೋಟೊರೆಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಡೋಪಿಂಗ್ ಅಂಶಗಳು ಮೆಗ್ನೀಸಿಯಮ್, ಸತು, ಇಂಡಿಯಮ್ ಮತ್ತು ಸ್ಕ್ಯಾಂಡಿಯಂನಂತಹ ಡೈವೇಲೆಂಟ್ ಮತ್ತು ಟ್ರಿವಲೆಂಟ್ ಅಂಶಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿತ್ತು.2009 ರಲ್ಲಿ, ಕಾಂಗ್ ಮತ್ತು ಇತರರು.tetr ಅನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಆಂಟಿ-ಫೋಟೋಫ್ರಾಕ್ಟಿವ್ ಡೋಪಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆaಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್, ಜಿರ್ಕೋನಿಯಮ್ ಮತ್ತು ತವರದಂತಹ ವೇಲೆಂಟ್ ಅಂಶಗಳು.ದ್ವಂದ್ವ ಮತ್ತು ಟ್ರಿವಲೆಂಟ್ ಡೋಪ್ಡ್ ಅಂಶಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಅದೇ ದ್ಯುತಿವಿದ್ಯುಜ್ಜನಕ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸಾಧಿಸಿದಾಗ, ಟೆಟ್ರಾಡ್ವಲೆಂಟ್ ಅಂಶಗಳ ಡೋಪಿಂಗ್ ಪ್ರಮಾಣವು ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ, 4.0 mol% ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್ ಮತ್ತು 6.0 mol% ಮೆಗ್ನೀಸಿಯಮ್ ಡೋಪ್ಡ್LNಹರಳುಗಳು ರುimಇಲಾರ್ದ್ಯುತಿ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಪ್ರತಿರೋಧ,2.0 mol% ಜಿರ್ಕೋನಿಯಮ್ ಮತ್ತು 6.5 mol% ಮೆಗ್ನೀಸಿಯಮ್ ಡೋಪ್ಡ್LNಹರಳುಗಳು ರುimಇಲಾರ್ದ್ಯುತಿ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಪ್ರತಿರೋಧ.ಇದಲ್ಲದೆ, ಲಿಥಿಯಂ ನಿಯೋಬೇಟ್‌ನಲ್ಲಿನ ಹ್ಯಾಫ್ನಿಯಮ್, ಜಿರ್ಕೋನಿಯಮ್ ಮತ್ತು ತವರದ ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆಯ ಗುಣಾಂಕವು 1 ಕ್ಕೆ ಹತ್ತಿರದಲ್ಲಿದೆ, ಇದು ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಹರಳುಗಳ ತಯಾರಿಕೆಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಅನುಕೂಲಕರವಾಗಿದೆ.

WISOPTIC [www.wisoptic.com] ನಿಂದ ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ LN ಅನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ